项目概况:我校位于贵阳市云岩区蔡关路1号,项目实施地点九州网页版,九州(中国)官方内,项目预算为人民币9.8万元整。
根据我校实际需要,现拟对下列仪器设备进行询价采购,欢迎符合资格要求的供应商根据询价通知书要求进行报价。
1、请报价人注明所供货物详细规格、配置,并按标准配置报价,请列明配置清单,若有不含在报价内的选配件请详细注明,整体成交,该报价必须是最终成交价。货物的总价应包括交货前的所有费用:即总价须包括货款、全部税金、代理费、运输、包装费等。
2、报价人报价时应承诺提供的货物(含配件)是全新、未使用过的原装合格正品,开箱合格率为100%,外观和内在质量都不得有任何问题,软件必须有授权证书。
3、报价人资格要求:
(1)必须符合《中华人民共和国政府采购法》中规定的条件;
(2)具有独立法人资格及与本次采购相应的经营范围;
(3)交货时需提交厂家产品质量合格报告;
(4)其他资格要求。
4、保证金:签订合同前交付合同总价5%的履约保证金。
5、成交原则:
(1)根据质量和服务均能满足采购文件实际性响应要求且报价最低的原则;
6、交货完毕时间:签订合同后30个工作日内(安装调试完成时间)。
7、交货地点及供货要求:
(1)报价人必须按采购人要求将货物送到采购人指定地点后进行验收;
(2)供货范围除包括“询价报价单”中的设备外,还应包括配套的辅助设备、技术资料(包括操作手册、使用指南、维修指南或服务手册等)以及所必需的备品备件品等,负责运输、安装并提供相应的技术服务与质量保证;
(3)质保期:报价人提供生产厂家质保期。
8、付款方式:成交供应商按采购人要求将货物送到指定地点,并经采购人验收合格后,由采购人按合同约定全额付款,履约保证金转为质量保证金,一年后,若无质量问题,质保金无息退还。如未能达到合同要求,采购人有权退货并要求成交供应商赔偿损失。
9、供应商报价提交资料,报价时应附营业执照、税务登记证、业绩证明(合同)开户银行和帐号等相关资格证明文件复印件(加盖单位公章),质保承诺书(加盖公章)一份。
10、报价时每一个分项都要报价,如只有总报价没有分项报价,视为无效报价。
11、询价采购结果请在我校部门网站主页的通知公告中查询。得知成交后,请及时与报价文件接收人联系签订合同事宜。
联系人:陈丽军
联系电话:18892311527
联系地址:九州网页版,九州(中国)官方1实验楼505
九州网页版,九州(中国)官方化工学院
2019年8月20日
九州网页版,九州(中国)官方化工学院PECVD系统采购清单
序号 |
设备名称 |
规格 |
数量 |
价格 |
合计 |
备注 |
1 |
PECVD系统 |
设备要求: 开启式真空管式滑轨炉 BTF- 1200C-SL φ50/➢60/φ80/φ100 炉管尺寸:φ50/➢60/φ80/φ100*1650mm 加热元件:电阻丝(Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo) 加热区长度:400mm 恒温区长度:200mm 工作温度:1100℃ 最高温度:1200℃ 控温方式:模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能 控温精度:±1℃ 升温速率:10℃/min 炉门结构:开启式 工作电源:AC220V /50HZ 额定功率:5KW 三路供气系统 GMF-3Z 外形尺寸:600x600x650mm 连接头类型:双卡套不锈钢接头。 标准量程(N2):50sccm、200sccm、500 sccm;(量程可选) 准确度:±1.5% 线性:±0.5~1.5% 重复精度:±0.2% 响应时间:气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec 工作压差范围:0.1~0.5 MPa 最大压力:3MPa 接口:Φ6,1/4'' 显示:液晶屏显示 工作环境温度:5~45高纯气体 内外双抛不锈钢管:Φ6 压力真空表:-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格 截止阀:Φ6 射频电源与匹配器 电源:单相50/60Hz 220v±10% 加热(功率)电源:2.5KW,25A 控制柜电源空气开关:32A空气开关 薄膜生长室温度:室温~ 1200℃ 信号频率:13.56 MHz±0.005% 射频功率输出范围:5~500W 技术参数: 外型尺寸:600*600*600mm 空气相对湿度≤85%, 工作电电压:220V±10% 50~60HZ 功率:400W 抽气速率:165L/min 极限真空:4X10-2Pa 实验真空度:1.0X10-1Pa 容油量:1.1L 进气口口径:KF25 排气口口径:KF25 转速:1450rpm 噪音:50dB |
1套 |
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PECVD是借助于辉光放电等方法产生等离子体,辉光放电等离子体中:电子密度高109-1012cm3电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍,使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。通过反应气态放电,有效地利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式,低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有优点,工艺流程简单。 1.与传统CVD系统比较,生长温度更低。 2.使用滑轨炉实现快速升温和降温。 3.设备特有的专利技术使得整管辉光均匀等效,均匀生长 |